Plasmaprozesse und Materialien
Plasmaprozesse und Materialanwendungen
Beschichtung
AE bietet ein umfassendes Portfolio für die Halbleiterabscheidung an, darunter Lösungen für Plasma-Stromversorgungen, Temperaturmessung, Temperaturkontrolle und Waferkontrolle.
Ätzen
Die genauen Plasma-Stromversorgungen von Advanced Energy ermöglichen eine exakte Steuerung von Ätzanwendungen bei hoher Prozesswiederholbarkeit und Prozessausbeute.
Silicon Carbide Crystal Growth
SiC is used in many different technologies that require a high thermal conductivity, low thermal expansion, and a maximum current density.
Innovationsförderung durch Lösungen für Plasmabearbeitung und Materialien
Advanced Energy hat sein umfassendes Fachwissen genutzt, um hochleistungsfähige Lösungen für die Plasmabearbeitung und Materialbearbeitung zu entwickeln, die die Standards in der Halbleiterfertigung erhöhen. Unsere spezialisierten Produkte wurden speziell für die Rationalisierung einer Vielzahl komplexer Hightech-Fertigungsprozesse entwickelt, einschließlich kritischer Schritte wie Ätzen, Abscheidung und Siliziumkarbidverarbeitung. Unsere hochpräzisen, hochzuverlässigen Stromversorgungen und Anpassungsnetzwerke sind für eine gleichmäßige und effiziente Plasmaerzeugung und -pflege ausgelegt, was zu konstanten Ätz- und Abscheidungsraten führt. Diese präzise Steuerung ist der Schlüssel zu überragenden Fertigungsergebnissen, die sich durch hohe Qualität und Gleichmäßigkeit der Endprodukte auszeichnen.Wir sind tiefer in die Herstellung von Leistungsbauelementen aus Siliziumkarbid (SiC) eingetaucht und haben unser Wissen und unsere Fähigkeiten genutzt, um in diesem Spezialgebiet führend zu werden. SiC-Bauteile gewinnen aufgrund ihrer einzigartigen elektrischen und thermischen Eigenschaften in verschiedenen Sektoren wie der Leistungselektronik, der Automobilindustrie und der Branche der erneuerbaren Energien zunehmend an Bedeutung. Unsere hochentwickelten Stromversorgungssysteme ermöglichen eine noch nie dagewesene Kontrolle über die SiC-Fertigungsprozesse, wodurch Defekte minimiert und eine hervorragende Leistung gewährleistet werden.
Unsere Lösungen sorgen für eine effiziente Kühlung, was die Langlebigkeit und Zuverlässigkeit der Geräte auch unter anspruchsvollen Betriebsbedingungen erhöht. Dieser duale Ansatz - präzise Leistungssteuerung und effizientes Wärmemanagement - zeigt unser unermüdliches Engagement, die Grenzen fortschrittlicher Materialverarbeitungstechnologien zu erweitern und damit letztlich den Erfolg und das Wachstum unserer Kunden in der schnelllebigen Halbleiterindustrie zu unterstützen.