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Beschichtung

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Die genaue Leistungsabgabe und die innovativen Steuerungen der AE-Lösungen für Plasma-Stromversorgungen, Temperaturmessung, Temperaturregelung und Wafersteuerung tragen zur Verbesserung der Prozesswiederholbarkeit und der Prozessausbeute bei. Wir bieten eine breite Palette von HF-, DC- und gepulsten DC-Stromversorgungssystemen und eine Vielzahl von Anpassungsnetzwerken an, um Ihre spezifischen Prozessanforderungen zu erfüllen.

Umfassendes Lösungsportfolio für verbesserte Prozesskontrolle

Die HF-Plasma-Stromversorgung und die schnelle HF-Anpassungstechnologie von Advanced Energy ermöglichen eine kundenspezifische und optimierte Kontrolle für anspruchsvolle PECVD- und PEALD-Beschichtungsprozesse. Unsere DC-Technologien bieten konfigurierbare Prozessparameter, hohe Genauigkeit und Prozesswiederholbarkeit für PVD- (Sputtern) und ECD-Beschichtungsprozesse an. Außerdem bieten wir Technologien zur Verbesserung der Temperaturüberwachung, Temperatursteuerung und Wafersteuerung für verschiedenste Schritte im Halbleiterherstellungsprozess an.

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