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Remote Plasmaquellen

Nutzen Sie die hohe Funktionalität und außergewöhnliche Zuverlässigkeit der Remote Plasmaquellen von Advanced Energy für Ihre Herstellungs- und Reinigungsprozesse. Zugeschnitten auf die verwendeten Prozessgase, können Sie den Prozessbereich erweitern bei gleichzeitiger Erhöhung der Rate. Die kompakte Bauform, in Verbindung mit vielfätigen Optionen, ermöglicht eine Steigerung der Effizienz und der Produktivität.

Remote Plasmaquellen

MAXstream Remote Plasma Source

  • Multiple models: MAXstream 300 for low flow applications and MAXstream 1200 for higher flow applications
  • Highly reliable RPS maximizes tool uptime

Rapid Ox Remote Plasma Source

  • Quartz liner makes it ideal for photoresist ashing or carbon chamber clean processes
  • Variable frequency matching provides a range of plasma impedance operation, controlled by varying gas chemistry, pressure, and power set point
  • Improved thermal management helps ensure long chamber lifetime

Xstream Remote Plasma Source

  • Highly reliable RPS maximizes tool uptime
  • Effective reactive species transportation to process chamber for improved performance
  • Transformer coupled plasma (TCP) source with integrated Active Match Network (AMN)

Ausgewählte Produkte

Highlight

MAXstream Remote Plasma Source

Reliable Performance for Chamber Clean Applications

Datenblatt

Technische Dokumentation

Titel Typ
RAPID OX (812 KB) Broschüre
采用主动匹配网络的XSTREAM远程等离子体源 (1 MB) Broschüre
MAXStream 1200 Datasheet (382 KB) Datenblatt
MAXstream 300 Data Sheet (228 KB) Datenblatt
Rapid OX RPS Data Sheet (402 KB) Datenblatt
Xstream RPS Data Sheet (891 KB) Datenblatt
3 Tips for Sourcing Chamber Cleaning RPS Systems (4 MB) Infografik
Advanced Ignition RPS (938 KB) Weißbuch
RPS Chamber Anodization (499 KB) Weißbuch
RPS Chamber Cleaning System Impact on Cost of Ownership (856 KB) Weißbuch

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