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リモートプラズマソース

アドバンスドエナジーのリモートプラズマソースの高い機能性と卓越した信頼性で、お客様の製造工程および排ガス処理工程を強化します。化学的性質を調整し、動作範囲を広げ、処理速度を向上させます。スリム化された設計で提供される当社の洗練された選択肢により、より高いレベルの効率と生産性を達成することができます。

リモートプラズマソース

MAXstream Remote Plasma Source

  • Multiple models: MAXstream 300 for low flow applications and MAXstream 1200 for higher flow applications
  • Highly reliable RPS maximizes tool uptime

Rapid Ox Remote Plasma Source

  • Quartz liner makes it ideal for photoresist ashing or carbon chamber clean processes
  • Variable frequency matching provides a range of plasma impedance operation, controlled by varying gas chemistry, pressure, and power set point
  • Improved thermal management helps ensure long chamber lifetime

Xstream Remote Plasma Source

  • Highly reliable RPS maximizes tool uptime
  • Effective reactive species transportation to process chamber for improved performance
  • Transformer coupled plasma (TCP) source with integrated Active Match Network (AMN)

注目製品

特集

MAXstream Remote Plasma Source

Reliable Performance for Chamber Clean Applications

データシート

技術文書

タイトル タイプ
RAPID OX (812 KB) パンフレット
采用主动匹配网络的XSTREAM远程等离子体源 (1 MB) パンフレット
MAXStream 1200 Datasheet (382 KB) データシート
MAXstream 300 Data Sheet (228 KB) データシート
Rapid OX RPS Data Sheet (402 KB) データシート
Xstream RPS Data Sheet (891 KB) データシート
3 Tips for Sourcing Chamber Cleaning RPS Systems (4 MB) インフォグラフィック
Advanced Ignition RPS (938 KB) ホワイトペーパー
RPS Chamber Anodization (499 KB) ホワイトペーパー
RPS Chamber Cleaning System Impact on Cost of Ownership (856 KB) ホワイトペーパー

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