증착

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AE의 플라즈마 전원 공급, 온도 측정, 온도 제어 및 웨이퍼 제어 솔루션의 정밀한 성능과 정교한 제어는 반복성과 수율을 향상시키는 데 도움이 됩니다. 특정 공정 요구 사항을 충족하기 위해 광범위한 RF, DC 및 pulsed-DC 전원 공급 시스템과 다양한 매칭 네트워크를 제공합니다.

향상된 프로세스 제어를 위한 포괄적인 솔루션 포트폴리오

Advanced Energy의 RF 플라즈마 전력 공급 및 고속 정합 기술을 통해 까다로운 PECVD 및 PEALD 증착 공정에 최적화된 맞춤형 성능을 구현할 수 있습니다. 당사의 DC 기술은 PVD(스퍼터링) 및 ECD 증착 공정에 구성 가능한 아크 응답, 전력 정확도 및 공정 재연성을 제공합니다. 또한 제조 공정의 다양한 측면에서 정밀도를 위한 온도 모니터링, 온도 제어 및 웨이퍼 제어 기술도 제공합니다.

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Ascent AMS II Pulsed and DC Power System

STABLE, REPEATABLE POWER | WATER COOLING | EMBEDDED IOT INTELLIGENCE

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Three Key Cabling Decisions to Optimize RF System Performance

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Ascent DMS Pulsed and DC Power System 데이터 시트	Pulsed and DC Power Systems	Advanced Dual-Magnetron Sputtering Accessories
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Ascent AMS II Pulsed and DC Power System 데이터 시트	Pulsed and DC Power Systems	STABLE, REPEATABLE POWER \| WATER COOLING \| EMBEDDED IOT INTELLIGENCE
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Xstream Remote Plasma Source 데이터 시트	Remote Plasma Sources	High-Quality, Chamber-Clean Remote Plasma Source with Unrivaled Performance
Navio Match Network 데이터 시트	RF Match Networks	Economical, Digital, Configurable Matching Network Solution
Pinnacle III DC Power Supply 데이터 시트	Pulsed and DC Power Systems	The Most Recognized DC Power Supply for <= 20 kW Processes
Pinnacle III Plus+ Pulsed DC Power Supply 데이터 시트	Pulsed and DC Power Systems	Process-Proven, Pulsed DC for Single-Magnetron Reactive Sputtering of Thin Dielectric Films
Bipolar		Improve Throughput and Virtually Eliminate Sticky Wafer and Wafer Popping Issues
Ascent AP Pulsed and DC Power System 데이터 시트	Pulsed and DC Power Systems	Unprecedented Power Control for Single- and Dual-Magnetron Sputtering

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